| PERKATAAN |
PADANAN |
BIDANG |
HURAIAN |
| intrinsic semiconductor | | | Semikonduktor tulen yang kepekatan pembawa casnya ditentukan oleh ciri bahan tersebut, biasanya pembawa cas, iaitu elektron dan lohong dihasilkan daripada kesan terma atau kecacatan semikonduktor tersebut. Dalam bahan ini, jumlah elektron dan lohong adalah sama, berbeza dengan semikonduktor ekstrinsik yang pembawa casnya dihasilkan oleh bahan pendop. Contohnya, silikon dan germanium. Banding semikonduktor ekstrinsik. |
| chemical vapour deposition | | | Proses kimia yang digunakan untuk menghasilkan bahan pejal tulen dan berprestasi tinggi. Satu lapisan substrat didedahkan kepada satu atau beberapa cecair atau gas mudah meruap yang mendorong tindak balas kimia yang kemudiannya mendap dan menghasilkan lapisan filem tipis di atas substrat tersebut. Kaedah ini biasa digunakan dalam industri semikonduktor untuk menghasilkan filem tipis. |
| silicon | | | Unsur kimia bukan logam, formula kimia, Si, dengan ciri nombor atom 14, valensi 4, berat atom 28.086, suhu lebur 1,410C, suhu didih 2,355C dan ketumpatan graviti 2.33. Unsur ini banyak terdapat pada kerak bumi dalam batu dan pasir sebagai sebatian silikon dioksida (SiO2). Bahan silikon tulen boleh berbentuk hablur dan amorfus. Bahan ini bersifat semikonduktor dan digunakan secara meluas dalam pembuatan peranti elektronik, seperti cip komputer, transistor dan diod. Sifat semikonduktor silikon dapat diubah melalui proses pengedopan dengan boron, fosforus atau arsenik. |
|
|