| PERKATAAN |
PADANAN |
BIDANG |
HURAIAN |
| electron diffraction pattern | | | Corak yang terhasil menggambarkan ciri bahan tersebut. Corak ini terbentuk melalui tindak balas antara elektron dan bahan yang mempunyai sifat hablur. |
| scanning probe lithography | | | Kaedah litografi bagi menghasilkan corak bersaiz nanometer pada permukaan suatu bahan terutamanya bahan semikonduktor dengan menggunakan mikroskop penerowongan imbasan (STM) atau mikroskop daya atom (AFM). Corak ini dihasilkan apabila penduga yang bermata tajam mengimbas permukaan dengan menggores permukaan, melakukan pemanasan setempat atau melukis menggunakan dakwat bahan kimia tertentu. Kaedah ini diperlukan bagi menghasikan corak bersaiz di bawah skala 100 nm, yang tidak dapat dihasilkan oleh kaedah litografi optik atau kaedah yang lain. |
| magnetic storage | | | Kaedah penyimpanan data menggunakan bahan magnet dengan memberikan corak pemagnetan berbeza atas lapisan permukaan bahan tersebut. Corak ini dikaitkan dengan isyarat digital. Idea penstoran magnet pertama kalinya telah dikemukakan oleh Oberlin Smith dalam tahun 1888 dan perakam magnet pertama telah dicipta oleh Valdemar Poulsen dalam tahun 1898. Storan magnet yang moden menggunakan bahan butiran nanomagnet sehingga dapat menyimpan data yang sangat besar. Contohnya, cakera keras berketumpatan tinggi. |
| microcontact printing | | | Teknik untuk menghasilkan corak nanoskala litografi pada suatu permukaan emas menggunakan elastomer (bahan seperti getah) sebagai pengecap dan monolapisan alkiltiol sebagai dakwat. Teknik ini digunakan untuk mencetak lapisan protein dan polipeptida sintetik. Teknik ini mempunyai kelebihan berbanding teknik fotolitografi dalam mencorakkan lapisan biomolekul yang sensitif kerana tidak memerlukan penggunaan larutan yang tajam dan beralkali. |
| electron beam litography (EBL) | | | Kaedah untuk membuat corak/ukiran bersaiz nano (nanostruktur) pada permukaan bahan dengan menggunakan alur elektron tumpu. |
| electron-beam lithography | | | Kaedah penghasilan litar bersepadu dengan mengimbaskan alur elektron untuk mengukir corak litar bersepadu. Keistimewaan kaedah ini dapat menghasilkan litar dengan kelebaran 10 nm atau kurang. |
| nanosphere lift-off lithography | | | Kaedah litografi yang menggunakan sfera kecil berskala nano bagi membentuk corak atas permukaan. Sfera ini bertindak sebagai topeng untuk menghalang keluasan tertentu pada permukaan daripada menerima pendepositan bahan nano daripada fasa wap. |
| liquid crystal | | | Bahan dalam fasa cecair dengan molekulnya tersusun seperti dalam hablur pepejal. Bahan ini bersifat tak isotrop, dwibiasan dan mempamerkan corak belauan dalam cahaya terkutub disebabkan oleh orientasi molekul yang selari dalam bilangan yang banyak. Hablur cecair digunakan dalam sistem paparan elektronik. |
| low energy electron diffraction (LEED) | | | Belauan elektron bertenaga 5 eV - 500 eV oleh suatu hablur. Elektron yang terserak tanpa kehilangan tenaga dipecutkan ke skrin pendarfluor untuk menghasilkan corak belauan. Belauan ini digunakan untuk mengkaji struktur permukaan hablur tunggal. |
| lithography | | | Kaedah penghasilan litar bersepadu yang melibatkan penutupan sebahagian besar permukaan dengan filem peka cahaya dan bahagian yang lain dibuang dengan hentaman zarah alur elektron, sinar-X atau sinaran ultralembayung sehingga suatu corak terhasil. Kaedah ini biasanya digunakan dalam industri semikonduktor. |